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一种光刻胶模板及图案化ZnO纳米棒阵列的制备方法

摘要

本发明公开了一种三光束激光干涉制备光刻胶模板的方法以及利用此方法制备图案化ZnO纳米棒阵列的应用,借助三光束激光干涉图案化技术,单次曝光快速生成大面积六角排列圆形孔洞模板,利用该模板对ZnO纳米棒阵列进行限域水热生长,从而实现ZnO纳米棒在位置、粗细、长短和疏密上的精确调控,具有系统结构简单、成本低廉、无需掩膜和转台、加工速度快和调控能力强等优点。所得大面积高度有序排列的ZnO纳米棒阵列,可应用于多个相关领域,包括发光二极管、紫外探测器、染料敏化太阳能电池、场发射冷阴极、应力传感器和生物传感器等,最终提高纳米功能器件的性能,具有重大的现实意义。

著录项

  • 公开/公告号CN102799063B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN201210252567.9

  • 申请日2012-07-20

  • 分类号

  • 代理机构北京金智普华知识产权代理有限公司;

  • 代理人皋吉甫

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号北科大科技处

  • 入库时间 2022-08-23 09:16:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-11-20

    授权

    授权

  • 2013-01-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20120720

    实质审查的生效

  • 2012-11-28

    公开

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