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用于在衬底上沉积至少一个导电膜的方法和系统

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本发明涉及一种用于在衬底(30)上沉积至少一个导电膜(20)的方法，包括步骤：选择膜材料层(10)，其中所述层(10)包括位于前面(11)上的掩模(40)且其中所述层(10)和所述掩模(40)是整体的，-将所述层(10)的所述前面(11)安置在所述衬底(30)上，将至少一个激光脉冲(120)施加到所述层(10)的后面(12)上，以便熔化且汽化至少部分所述层(10)从而使熔化的液滴(110)朝向所述衬底(30)推进且沉积在其上，由此形成所述膜(20)，其中所述掩模(40)的至少一个槽(45)限定所述熔化的液滴(110)的分布。

著录项

公开/公告号CN102282693B

专利类型发明专利
公开/公告日2013-10-23

原文格式PDF
申请/专利权人皇家飞利浦电子股份有限公司;
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申请/专利号CN201080004658.X
发明设计人杰罗恩·H·A·M·范布尔;D·伯特拉姆;J·克里恩;H·施瓦布;E·W·A·扬;A·加塞尔;K·韦斯森巴赫;C·维德;N·皮尔赫;J·H·施托伦维尔克;
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申请日2010-01-11
分类号H01L51/00(20060101);C23C14/28(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人初媛媛;刘鹏
地址荷兰艾恩德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:16:20

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-04-05

专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 51/00 变更前: 变更后: 申请日:20100111

专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2017-04-05

专利权的转移 IPC(主分类):H01L 51/00 登记生效日:20170314 变更前: 变更后: 申请日:20100111

专利申请权、专利权的转移
2013-10-23

授权

授权
2012-03-14

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 51/00 申请日:20100111

实质审查的生效
2011-12-14

公开

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