公开/公告号CN102165093B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-09-25
原文格式PDF
申请/专利权人 JX日矿日石金属株式会社;
申请/专利号CN200980138226.5
申请日2009-09-24
分类号C23C14/34(20060101);H01L21/28(20060101);H01L21/285(20060101);
代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人王海川;穆德骏
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 09:16:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-26
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/34 变更前: 变更后: 申请日:20090924
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2013-09-25
授权
授权
2011-10-05
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20090924
实质审查的生效
2011-08-24
公开
公开
机译: 高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶,该溅射靶的制造方法以及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜
机译: 高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶,制造溅射靶的方法以及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜
机译: 高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶,其制造方法以及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜