公开/公告号CN101435888B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-08-21
原文格式PDF
申请/专利权人 精工爱普生株式会社;
申请/专利号CN200810176318.X
发明设计人 澁谷宗裕;
申请日2008-11-14
分类号G02B5/20(20060101);G02B1/10(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/24(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人丁香兰;赵冬梅
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:15:41
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-08-21
授权
授权
2011-11-23
专利申请权的转移 IPC(主分类):G02B 5/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20111014 申请日:20081114
专利申请权、专利权的转移
2009-07-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-05-20
公开
公开
机译: 多层光学膜厚控制方法,多层光学膜制造方法和多层光学膜溅射装置
机译: 多层光学膜厚控制方法,多层光学膜制造方法和多层光学膜溅射装置
机译: 多层光学膜厚度控制方法,多层光学膜制造方法和多层光学膜溅射装置