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光学多层膜过滤器、光学多层膜过滤器的制造方法和电子机器装置

摘要

本发明提供光学多层膜过滤器及其制造方法,该光学多层膜过滤器能降低灰尘的附着且能容易地除去附着的灰尘。光学多层膜过滤器10具有由形成于玻璃基板1上的两个以上的层构成的无机薄膜2。无机薄膜2中,在玻璃基板的表面依次交替层积TiO2层和SiO2层,最表层由SiO2层(2L30)构成,在无机薄膜2的最表层的表面形成有含氟有机硅化合物膜5。并且,构成最表层的SiO2层的密度为1.9~2.1g/cm3,进而无机薄膜2的最表层的SiO2层设为第1层时,在第1层SiO2层的下层的第2层(2H30)和第4层(2H29)选择性地形成密度为4.1~4.8g/cm3的TiO2层,在第3层(2L29)选择性地形成密度为1.9~2.1g/cm3的SiO2层。这些SiO2层和TiO2层使用真空蒸镀法成膜。

著录项

  • 公开/公告号CN101435888B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-08-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 精工爱普生株式会社;

    申请/专利号CN200810176318.X

  • 发明设计人 澁谷宗裕;

    申请日2008-11-14

  • 分类号G02B5/20(20060101);G02B1/10(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人丁香兰;赵冬梅

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-21

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G02B 5/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20111014 申请日:20081114

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-07-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-05-20

    公开

    公开

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