利用电子束的薄层高分辨率加工方法

摘要

本发明涉及在真空室中蚀刻铬层的方法，该方法包括下列步骤：将卤素化合物引入真空室中，将电子束引导至待蚀刻的铬层区域上以及将含氧化合物引入到真空室中。在另一方面，本发明涉及高分辨移除金属和/或金属氧化物层的方法，所述金属和/或金属氧化物布置在绝缘体或具有较差导热性的衬底上，该方法包括下列步骤：将所述层布置在真空室内部，用具有3-30keV能量的聚焦电子束轰击所述层，其中定向电子束使得单位时间和面积的能量转移导致将所述层局部加热到其熔点和/或气化点之上，并且其中实施层的移除并没有向真空室中提供反应气体。