法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-05-22
授权
授权
2011-04-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20100907
实质审查的生效
2011-03-09
公开
公开
机译: 形成相变材料层的方法和使用相变材料形成相变存储器的方法以及由相变存储器形成的相变存储器
机译: 相变材料层及其制造方法和包括使用相变材料层形成的相变材料层的相变存储器件以及制造和操作相变存储器件的方法
机译: 形成相变材料薄膜的方法以及使用该相变材料薄膜的相变存储器件的制造方法