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包括浮栅的非易失性半导体器件、制造非易失性半导体器件的方法及相关系统

摘要

一种存储器件包括衬底中的相邻隔离层之间的衬底上的第一浮栅电极,该第一浮栅电极的至少一部分在相邻隔离层的一部分上面突出;第二浮栅电极,在相邻隔离层的至少一个上,电连接到第一浮栅电极;该第一和第二浮栅电极上方的介电层;以及该介电层及第一和第二浮栅电极上方的控制栅。

著录项

  • 公开/公告号CN101299442B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN200810008714.1

  • 发明设计人 李世薰;崔晶东;张桐熏;李钟振;

    申请日2008-01-24

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人黄启行

  • 地址 韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416番地

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-08

    授权

    授权

  • 2010-05-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/788 申请日:20080124

    实质审查的生效

  • 2008-11-05

    公开

    公开

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