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苄氧基吡咯烷衍生物的制造方法及光学活性苄氧基吡咯烷衍生物盐酸盐粉体的制造方法

摘要

本发明涉及一种通式(2)表示的苄氧基吡咯烷衍生物的制造方法,其特征在于,在碱金属氢氧化物的存在下,通式(1)表示的羟基吡咯烷衍生物与苄基卤衍生物反应时,在下述条件A或B下使其反应,即,条件A:在非质子性极性溶剂中;条件B:在含有相转移催化剂的脂肪族醚溶剂中。本发明提供一种高收率且安全地制造苄氧基吡咯烷衍生物的方法,还提供一种苄氧基吡咯烷衍生物盐酸盐粉体及其高收率且安全的制造方法。

著录项

  • 公开/公告号CN101300228B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东丽精密化学株式会社;

    申请/专利号CN200680040655.5

  • 发明设计人 森本正雄;山川敦;

    申请日2006-10-30

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人杨宏军

  • 地址 日本千叶县

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C07D 207/12 变更前: 变更后: 申请日:20061030

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-05-08

    授权

    授权

  • 2008-12-31

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-11-05

    公开

    公开

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