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一种降低双极正向压降的SiC MPS二极管及其制作方法

摘要

本发明公开了一种降低正向压降的SiC JBS二极管及其制作方法,所述的降低双极正向压降的SiC MPS二极管,包括n+‑SiC衬底,衬底上依次为n‑SiC漂移区,n‑SiC漂移区上表面具有若干沟槽,在沟槽里填充若干p+‑NiO区,正面覆盖有阳极,衬底背面覆盖阴极。本发明在保证高击穿电压的同时,显著改善了SiC JBS的双极正向压降,增强了双极导通模式下的载流子注入效率,从而降低双极正向压降,提升器件的抗浪涌能力;并通过减薄二极管的衬底,降低器件的衬底体电阻,因此降低器件的总通态电阻,减小通态损耗。

著录项

  • 公开/公告号CN115498019A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安龙飞电气技术有限公司;

    申请/专利号CN202211186647.9

  • 发明设计人 刘青;曹琳;郑丽君;

    申请日2022-09-28

  • 分类号H01L29/06;H01L29/872;H01L21/329;

  • 代理机构西安新思维专利商标事务所有限公司;

  • 代理人李罡

  • 地址 710018 陕西省西安市未央区经济技术开发区凤城十二路凯瑞A座304-04室

  • 入库时间 2023-06-19 18:01:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-20

    公开

    发明专利申请公布

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