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公开/公告号CN115391901A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江大学;中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司;
申请/专利号CN202211115359.4
发明设计人 俞建霖;王成灿;过锦;臧延伟;黄苏杭;王紫娟;龚晓南;刘长宝;
申请日2022-09-14
分类号G06F30/13;G06F30/23;E21D9/14;G06F119/14;
代理机构杭州求是专利事务所有限公司;
代理人万尾甜;韩介梅
地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
入库时间 2023-06-19 17:45:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-25
公开
发明专利申请公布
机译: 光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译: 隧道施工方法在隧道基坑上半限开挖中的防护装置
机译:2D和3D问题中邻近隧道和深基坑的桩中诱发变形和力的比较
机译:考虑耦合效应的基坑开挖对地铁隧道结构的影响
机译:圆形基坑开挖引起的隧道变形的分析研究
机译:基坑开挖对邻近建筑物的损伤的近似计算方法
机译:37号区块开挖对邻近货运隧道的影响:性能和分析。
机译:考虑开挖隧道空区影响的微震事件定位
机译:淤泥质土路基坑基坑开挖变形模式
机译:隧道设计考虑因素:推进隧道周围的应力和变形分析。