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一种铜电解抛光液及电解抛光方法

摘要

本发明涉及表面处理技术领域,具体涉及一种铜电解抛光液及电解抛光方法,包括以下重量份的各组分:磷酸45‑55份;光亮剂4‑5份;整平剂0.5‑1份;纯水30‑50份;包括如下步骤:S1:铜预处理:将待抛光铜材料置于稀酸中超声活化,随后在去离子水中超声清洗;S2:电解抛光:将经预处理的铜材料置于铜电解抛光液中电解抛光;S3:铜后处理:将经电解抛光的铜材料在1号钝化液中一次超声处理,随后在2号钝化液中二次超声处理,最后清洗并烘干。与现有技术相比,本发明实现了无毒无害无污染的铜电解抛光液及电解抛光方法,适用于工业大批量生产,且抛光产品质量高,更加光亮。

著录项

  • 公开/公告号CN114990685A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海应用技术大学;

    申请/专利号CN202210640397.5

  • 申请日2022-06-07

  • 分类号C25F3/22;

  • 代理机构上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人蒋亮珠

  • 地址 201418 上海市奉贤区海泉路100号

  • 入库时间 2023-06-19 16:39:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-02

    公开

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