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InSb焦平面探测器的制作方法和InSb焦平面探测器

摘要

本发明涉及一种InSb焦平面探测器的制作方法和InSb焦平面探测器,所述方法包括:将InSb探测器芯片的背面减薄至预设透镜设计厚度,对所述InSb探测器芯片的背面进行表面处理;蚀刻所述InSb探测器芯片的背面形成凹透镜和凸透镜;在所述凹透镜和凸透镜远离所述InSb探测器芯片的一侧设置反射膜形成微透镜阵列,制作效率高,与探测器材料耦合应力小,耦合精度高,且同时设置有凹透镜和凸透镜,使得微透镜阵列整体填充率较高。

著录项

  • 公开/公告号CN114744003A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202210532126.8

  • 发明设计人 谭启广;张轶;

    申请日2022-05-09

  • 分类号H01L27/146;H01L31/18;H01L31/0232;H01L31/101;

  • 代理机构工业和信息化部电子专利中心;

  • 代理人焉明涛

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路4号

  • 入库时间 2023-06-19 16:00:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-12

    公开

    发明专利申请公布

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