首页> 中国专利> 一种基于二维层间滑移铁电半导体的场效应晶体管器件及其制备方法

一种基于二维层间滑移铁电半导体的场效应晶体管器件及其制备方法

摘要

本发明提出一种基于Ⅲ‑Ⅵ族材料(GaSe)层间滑移铁电场效应晶体管器件,利用该类材料中电场控制层间滑移实现极化翻转的特性,可以实现对沟道费米能级和电导率的调控,与传统铁电场效应晶体管相比,二维超薄铁电体可以显著缩小器件尺寸,增加有效栅电场,翻转或极化所需的电压可以进一步降低,从而可以实现低功耗存储。这种外加电场调控层间滑移的新型铁电场效应晶体管器件为实现高性能的铁电存储及高集成度的存储芯片提供了新平台。

著录项

  • 公开/公告号CN114709257A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202210197028.3

  • 发明设计人 刘富才;马博文;卞仁吉;

    申请日2022-03-01

  • 分类号H01L29/423;H01L29/10;H01L29/16;H01L29/78;H01L21/336;

  • 代理机构北京金智普华知识产权代理有限公司;

  • 代理人叶盛

  • 地址 610000 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 15:52:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-05

    公开

    发明专利申请公布

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