一种测试掩模和利用该掩模进行曝光系统参数测量的方法

摘要

一种测试掩模，包括上下两个基底，上基底的表面上具有两个边长为l₁的第一方孔标记，两个方孔标记之间的距离为m，下基底的上表面上具有一个边长为l₂的第二方孔标记，l₂≥2l₁+m，第二方孔标记的位置使得第二方孔标记能完全接收第一方孔标记出射的光，下基底的下表面上具有一个凹透镜，位于对应于一个第一方孔标记的位置处。利用测试掩模测量曝光系统参数时，通过在两个不同的位置处成像并采集光强后，进行拟合得到两个不同位置处光强分布的半径，利用这些半径值获得曝光系统的照明数值孔径和投影物镜数值孔径，以及最佳焦面位置。