防腐蚀性铜及电真空器件

摘要

本申请实施例提供一种防腐蚀性铜及电真空器件，属于电真空设备材料领域。在防腐蚀性铜中，铜晶界数量≤10个/cm2；该防腐蚀性铜为晶畴为Cu(111)、Cu(200)和Cu(220)其中一种的单晶铜，单晶铜的XRD测试的单晶峰强＞3*103。电真空器件具有真空作业元件，该真空作业元件的材质为该防腐蚀性铜。本申请的防腐蚀性铜在单位面积内具有特定的铜晶界数量，且其晶畴具有特定的单晶取向以及单晶峰强，使得铜材料自身具有较好的防腐蚀性能，能够有效改善真空作业元件的腐蚀问题，提高真空作业元件的散热性能和使用寿命。