一种平坦化装置及平坦化方法

摘要

本发明公开了一种平坦化装置及平坦化方法，涉及半导体技术领域，用于在提高平坦化处理效率的同时，提升平坦化处理的精准度。所述平坦化装置包括：夹持部、粒子束生成器和遮挡部。夹持部用于夹持晶圆。粒子束生成器设置在夹持部的一侧，粒子束生成器用于生成对晶圆进行平坦化处理的粒子束，粒子束的轴向与晶圆的预保留部分的上表面平行。遮挡部设置在粒子束生成器与晶圆的预保留部分之间，遮挡部用于至少遮挡射向晶圆的预保留部分的粒子束。所述平坦化装置用于对晶圆进行平坦化处理。