一种用于红外光学窗口表面的高硬度SiCN增透保护薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种用于红外光学窗口表面的高硬度SiCN增透保护薄膜及其制备方法。通过非平衡反应磁控溅射技术制备得到，具体为：在真空度3×10‑3～5×10‑3mbar、工作温度300～500℃、电源功率2000～2300W的条件下，以流量为5～10sccm的N2为前驱气体、流量为30～45sccm的Ar为工作气体，靶基距220～270mm，反应溅射高纯SiC靶，沉积3500～4300s制备高硬度SiCN增透保护薄膜。所得保护薄膜折射率可根据红外光学窗口所需进行调控，在目标波段有较高的光学透过率，同时具有高硬度、抗砂尘、磨损、雨蚀等恶劣环境能力，具有广泛的应用前景。