公开/公告号CN114107964A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-01
原文格式PDF
申请/专利权人 江西欧特光学有限公司;
申请/专利号CN202111344789.9
发明设计人 陈新;
申请日2021-11-15
分类号C23C18/18(20060101);C23C18/42(20060101);B24B27/033(20060101);B24B57/02(20060101);F26B21/00(20060101);
代理机构36142 南昌合达信知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人李旦
地址 334000 江西省上饶市上饶经济技术开发区兴业大道11号
入库时间 2023-06-19 14:22:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-01
公开
发明专利申请公布
机译: 化学气相沉积装置。用于纯半导体-带有镀银或镀银钢铃以承受压差
机译: 制备用于沉积钛,铝和氮涂层的溅射靶的方法,由此制得的溅射靶以及用所述靶进行溅射的方法
机译: 底物催化的方法,应在糊剂下制得一层沉积的金属香茅,并准备用于此目的的糊剂的制备方法。