防止半导体制造设备用排气管内沉积粉末的装置、具备其的排气设备及利用其的排气管内粉末沉积防止方法

摘要

根据本发明提供一种半导体制造设备用排气设备，包括用于从半导体制造设备的工艺腔室排出的废气流动的排气管；产生压力使所述废气在所述排气管流动的真空泵；及防止在所述排气管内沉积粉末的粉末沉积防止装置，其中，为了防止由于所述废气中所含的氨(NH3)气体在所述排气管内产生粉末，所述粉末沉积防止装置形成发生等离子体反应的等离子体处理区域，利用所述等离子体反应分解所述废气中所含的氨(NH3)气体以转变成包含氮(N2)气、氢(H2)气、受激的氮原子(N*)、受激的氢原子(H*)、肼(N2H4)气体、二嗪(N2H2)气体的混合气体。