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基于量子点光致发光特性及激光雕刻的防伪标识及其制法

摘要

本发明涉及一种基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识及其制备方法,通过先以量子点和高分子聚合物为原料制得量子点‑高分子聚合物混合液,再将量子点‑高分子聚合物混合液进行刮涂成膜得到量子点‑柔性薄膜,最后利用激光在烘干后的量子点‑柔性薄膜上进行雕刻,即得图案化的防伪标识。本发明所述防伪标识,通过采用量子点作为荧光防伪材料,具有高亮度、多色彩、安全性高、稳定性高、使用寿命长等优点;再者,通过将量子点分散于柔性基底中,使得防伪薄膜的亮度高,柔性好,可拉伸性好;最后,采用激光雕刻技术进行荧光柔性薄膜的图案化,能够实现精细图案的加工。

著录项

  • 公开/公告号CN114120798A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学杭州创新研究院;

    申请/专利号CN202111402747.6

  • 发明设计人 邓元;侯小琪;赵未昀;张玉蕾;

    申请日2021-11-24

  • 分类号G09F3/02(20060101);C09K11/88(20060101);C09K11/66(20060101);C09K11/62(20060101);C09K11/02(20060101);

  • 代理机构11471 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘静培

  • 地址 310000 浙江省杭州市滨江区长河街道创慧街18号

  • 入库时间 2023-06-19 14:19:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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