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半导体外延结构及其应用、半导体外延结构的制作方法

摘要

本发明公开了一种半导体外延结构及其应用、半导体外延结构的制作方法,其中所述半导体外延结构至少包括:第一类型半导体层;发光层,设置在所述第一类型半导体层上;以及第二类型半导体层,设置在所述发光层上;其中,所述发光层包括周期性层叠设置的势阱层和势垒层,且所述发光层中间区域的至少部分所述势垒层被掺杂,且掺杂类型与所述第二类型半导体层的掺杂类型相同。通过本发明提供的一种半导体外延结构及其制作方法、发光二极管,可提高光效和光输出功率。

著录项

  • 公开/公告号CN114122205A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆康佳光电技术研究院有限公司;

    申请/专利号CN202111327262.5

  • 发明设计人 孙威威;黄国栋;

    申请日2021-11-10

  • 分类号H01L33/04(20100101);H01L33/20(20100101);H01L33/30(20100101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人李铁

  • 地址 402760 重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号(1号厂房)

  • 入库时间 2023-06-19 14:19:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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