用于处理多个基板的基板处理系统和在直列基板处理系统中处理基板的方法

摘要

描述了一种用于处理多个基板的基板处理系统。所述系统包括：第一沉积模块，所述第一沉积模块是第一直列模块并且具有第一多个真空沉积源；第二沉积模块，所述第二沉积模块是第二直列模块并且具有第二多个真空沉积源；和玻璃搬运模块，所述玻璃搬运模块在所述第一沉积模块与所述第二沉积模块之间。