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跨集成电路芯片的随机区域实施掩模综合一致性

摘要

系统生成针对电路设计的掩模,同时跨掩模的随机区域实施对称性和一致性。系统构建将电路图案映射到掩模图案的掩模解决方案数据库。系统使用掩模解决方案数据库来利用掩模图案替换电路设计的电路图案。系统标识电路设计的电路图案中的性质,并且在对应掩模图案中实施相同的性质。实施的性质的示例包括电路图案内的对称性和跨电路图案的相似性。系统将电路的不同区域中的掩模图案组合,并且解决在一个区域内存在多个掩模时出现的冲突。

著录项

  • 公开/公告号CN114127731A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美商新思科技有限公司;

    申请/专利号CN202080051730.8

  • 发明设计人 T·C·塞西尔;K·胡克;

    申请日2020-07-16

  • 分类号G06F30/39(20200101);G06F30/392(20200101);G03F1/36(20120101);G03F1/44(20120101);G03F1/70(20120101);G03F1/78(20120101);G06F16/51(20190101);G06F111/20(20200101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 14:19:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    国际专利申请公布

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