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室温磁热材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种室温磁热材料及其制备方法。所述室温磁热材料的制备方法包括:步骤一:采用磁控溅射沉积技术在基底上制备Gd5Si2Ge2合金薄膜;步骤二:采用磁控溅射沉积技术,在Gd5Si2Ge2合金薄膜上制备Ni50Mn37Sb13合金薄膜,获取由GdSiGe/NiMnSb合金薄膜复合成的第一复合薄膜材料;步骤三:采用磁控溅射沉积技术,在所述第一复合薄膜材料的表面制备Ni50Mn37Sn13薄膜,获取由GdSiGe/NiMnSb/NiMnSn合金薄膜复合成的第二复合薄膜材料;步骤四:采用磁控溅射沉积技术,在所述第二复合薄膜材料的表面制备Ni50Mn35In15薄膜,以获取由GdSiGe/NiMnSb/NiMnSn/NiMnIn合金薄膜复合成的室温磁热材料。本发明提供的室温磁热材料的制备方法简单易操作,具有实用价值,且该复合材料成本低廉,环境友好无污染。

著录项

  • 公开/公告号CN114093663A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津城建大学;

    申请/专利号CN202111462601.0

  • 发明设计人 郭振刚;刘志锋;张博;杨发松;

    申请日2021-12-03

  • 分类号H01F41/18(20060101);H01F1/01(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/35(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300384 天津市西青区津静公路26号

  • 入库时间 2023-06-19 14:15:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01F41/18 专利申请号:2021114626010 申请日:20211203

    实质审查的生效

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