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公开/公告号CN113992901A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-28
原文格式PDF
申请/专利权人 中国工程物理研究院流体物理研究所;
申请/专利号CN202111262875.5
发明设计人 陈一波;段佳著;赵祥杰;张大勇;骆永全;乔冉;李大鹏;曾建成;沈浩;李玥颖;
申请日2021-10-28
分类号H04N9/31(20060101);
代理机构51220 成都行之专利代理事务所(普通合伙);
代理人喻英
地址 621000 四川省绵阳市绵山路64号
入库时间 2023-06-19 14:01:55
机译: 投影系统,例如头戴式显示器具有成像单元,该成像单元具有反射面,通过该反射面,液晶单元装置所辐射的辐射通过反射两次偏转到另一个液晶单元装置。
机译: 用于投影照明装置的照明系统,其成像透镜在发射平面上成像中间区域平面,并且在中间区域平面和发射平面之间成像光瞳平面
机译: 偏转光的液晶元件,投影型显示器和抖动校正成像装置
机译:具有多个束束的装置的二次电子投影成像系统的防扫描操作模式
机译:大型螺旋装置 a sup>中的四种不同频率的微波成像反射法同时投影和检测系统
机译:Seiko Epson,投影仪的液晶装置减少的像素的数量减少到0.5英寸,并且在成本方面提高了投影灯,并且还促进了节能
机译:多投影非接触式荧光层析成像装置,用于成像任意几何形状。
机译:通过抵抗乘法散射光子的光投影成像中的空间分辨率
机译:Delta-Sigma使用带有数字微镜装置的投影仪调制可见光通信照明系统
机译:大型螺旋装置中微波成像反射法的四种不同频率的同时投影和检测系统
机译:评估巴可9200 LC液晶光阀投影仪