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预测电镀液的电镀均匀性的电化学方法、筛选电镀液的方法和应用

摘要

本发明涉及电镀金整平性预测领域,公开了预测电镀液的电镀均匀性的电化学方法、筛选电镀液的方法和应用。电化学方法包括:在装有电镀液的电镀池上施加电压U进行电镀;将所述电压U进行变化,并测量对应的电镀电流强度I,绘制电镀电流强度I对所述电压U的变化曲线;通过所述变化曲线,计算为所述电镀液设定的至少两个电流密度值之间的电位差绝对值,用于预测所述电镀液进行电镀制得的电镀均匀性。由此有效判断电镀液的电镀均匀性且用时短,特别是无氰镀金液用于晶圆镀金的电镀均匀性。对于在电极表面吸附不具有强烈对流依赖性的添加剂也是有效的。

著录项

  • 公开/公告号CN113960148A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202111243381.2

  • 发明设计人 王彤;任长友;邓川;刘鹏;

    申请日2021-10-25

  • 分类号G01N27/48(20060101);C25D21/00(20060101);

  • 代理机构11283 北京润平知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘伊南;赵泽丽

  • 地址 518020 广东省深圳市罗湖区笋岗街道笋西社区宝安北路1007号笋岗七号仓七层

  • 入库时间 2023-06-19 13:58:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-08

    授权

    发明专利权授予

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