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一种提高清洗效率的等离子腔室

摘要

本发明公开了一种提高清洗效率的等离子腔室,包括喷淋板、抽气环、加热盘以及陶瓷套;其中,所述喷淋板与抽气环的间隙尺寸小于1mm。该结构中喷淋板与抽气环采用新的配合方式,从而应用该结构达到了降低PECVD腔内的清洗时间、气体用量及颗粒度,提高产能,节约成本,降低硬件损伤的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN113802110A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 拓荆科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202010538699.2

  • 发明设计人 林轩宇;柳雪;柴智;王琳琳;

    申请日2020-06-13

  • 分类号C23C16/455(20060101);C23C16/44(20060101);C23C16/50(20060101);

  • 代理机构21229 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人王翠

  • 地址 110179 辽宁省沈阳市浑南区水家900号

  • 入库时间 2023-06-19 13:45:04

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