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一种PVT法自发形核制备AlN晶体的方法

摘要

本发明涉及一种PVT法自发形核制备AlN晶体的方法,其包括以下步骤:1)、对AlN粉末进行纯化;2)、将纯化后的AlN粉末放入坩埚(1)中,在坩埚(1)内部高度的1/5至4/5处放置金属丝网(2)并使得AlN粉末位于所述金属丝网(2)之下,然后将坩埚(1)置于石墨加热体中后放入单晶生长炉内,在常温下将单晶生长炉抽真空至10E‑6 mbar,然后在100‑1000mbar纯氮气气氛下,以100‑150℃/h的升温速率加热升温至2000‑2300℃并保温24‑72h,然后以100‑150℃/h的降温速率降至室温,从而在所述金属丝网(2)的表面自发形核生长出AlN晶体。其制备的AlN晶体的晶粒质量高且尺寸大。

著录项

  • 公开/公告号CN113789573A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202111351102.4

  • 申请日2021-11-16

  • 分类号C30B29/40(20060101);C30B23/00(20060101);

  • 代理机构11390 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人申龙华

  • 地址 047500 山西省长治市高新区漳泽新型工业园区

  • 入库时间 2023-06-19 13:43:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B29/40 专利申请号:2021113511024 申请公布日:20211214

    发明专利申请公布后的驳回

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