公开/公告号CN113764509A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-07
原文格式PDF
申请/专利权人 中山市华南理工大学现代产业技术研究院;华南理工大学;
申请/专利号CN202110824401.9
申请日2021-07-21
分类号H01L29/06(20060101);H01L29/205(20060101);H01L29/47(20060101);H01L29/778(20060101);H01L21/331(20060101);
代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;
代理人何淑珍;江裕强
地址 528400 广东省中山市火炬开发区中心城区祥兴路6号212房
入库时间 2023-06-19 13:37:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-08-25
授权
发明专利权授予
机译: 一种基于gan的增强型hemt设备的制备方法
机译: Si衬底上的增强型GaN基HEMT器件及其制造方法
机译: 用于增加gan增强型MOSFET的阈值电压的外延层结构和器件制造方法