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超宽幅线阵影像附加约束条件的正射纠正方法

摘要

本发明针对超宽幅线阵影像行间外方位元素具有强相关性和线阵传感器边缘畸变大的缺陷,提出了附加约束条件(角度一致约束、共面约束)的超宽幅线阵影像严密正射纠正方法,包括:(1)地面控制点采集;(2)构建附加约束条件的严密模型;(3)超宽幅线阵影像严密正射纠正处理。本发明通过约束条件将外方位元素进行解耦,提升了超宽幅线阵影像外方位元素的求解精度,改善了超宽幅线阵影像的正射纠正结果,为超宽幅线阵影像的正射纠正提供了新的解决方案,扩展了超宽幅线阵影像的应用范围。并且该模型受控制点数量和初始值精度的影响较小,可以在选择相对较少控制点的同时达到更高的解算精度,减少了外业工作量,节省了人力物力。

著录项

  • 公开/公告号CN113902626A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林理工大学;

    申请/专利号CN202110969779.8

  • 发明设计人 周国清;刘星星;

    申请日2021-08-23

  • 分类号G06T5/00(20060101);G06T3/00(20060101);G06T17/05(20110101);G01C11/04(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市七星区建干路12号

  • 入库时间 2023-06-19 13:35:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-05-05

    授权

    发明专利权授予

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