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可用于800℃及以上的准光学微腔基选择性吸收涂层

摘要

本发明提供了一种可用于800℃及以上的准光学微腔基选择性吸收涂层,其由下至上依次包括红外反射层、准光学微腔吸收体和光学减反层,所述光学减反层包括Al2O3减反层、SiO2减反层中的至少一种;所述准光学微腔吸收体从下到上依次包括第一准光学微腔选择性吸收层、超高温陶瓷材料层、第二准光学微腔选择性吸收层;所述第一准光学微腔选择性吸收层和第二准光学微腔选择性吸收层为超高温陶瓷材料‑Al2O3或SiO2复合材料;所述红外反射层的材质为超高温陶瓷材料;所述超高温陶瓷材料为碳化物、氮化物、硼化物中的至少一种。采用本发明的技术方案具有高光谱选择性;而且具有高温热稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN113699482A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学(深圳);

    申请/专利号CN202110988627.2

  • 发明设计人 曹峰;王建;张倩;伍作徐;刘一杰;

    申请日2021-08-26

  • 分类号C23C14/06(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/35(20060101);F24S70/225(20180101);

  • 代理机构44451 深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张西红

  • 地址 518000 广东省深圳市南山区桃源街道深圳大学城哈尔滨工业大学校区

  • 入库时间 2023-06-19 13:24:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-08-22

    授权

    发明专利权授予

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