公开/公告号CN113683863A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-23
原文格式PDF
申请/专利权人 三星SDI株式会社;
申请/专利号CN202110520495.0
申请日2021-05-13
分类号C08L63/00(20060101);C08L33/00(20060101);C08K7/18(20060101);C08K3/22(20060101);C08K3/38(20060101);C08J5/18(20060101);H01L23/29(20060101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人杨文娟;臧建明
地址 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
入库时间 2023-06-19 13:23:06
机译: 半导体膜组成物,半导体膜组成物的制造方法,半导体构件的制造方法,半导体处理材料的制造方法以及半导体装置
机译: 半导体膜组成物,半导体用膜组成物的制造方法,半导体用构件的制造方法,半导体处理材料的制造方法以及半导体装置
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