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基于x射线的AlGaN层Al组分测定方法

摘要

本发明公开一种基于x射线的AlGaN层Al组分测定方法,包括如下步骤:S1、对GaN的(114)晶面进行XRD的2θ‑ω扫描,计算AlGaN(114)晶面的面间距测量值d测;S2、对AlGaN层中的Al组分x进行赋值,计算不同x值下AlGaN(114)晶面的面间距计算值d计;S3、输出与面间距测量值d测偏差最小的面间距计算值d计及其对应的x值。不需要利用RSM图测定驰豫度的情况下,通过扫描受双轴应力影响较小的(114)晶面的2θ曲线,就能较为准确的测定AlGaN层中Al组分,能够减少测试时间,同时提高测试效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113640328A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 芜湖启迪半导体有限公司;

    申请/专利号CN202110925743.X

  • 申请日2021-08-12

  • 分类号G01N23/207(20060101);

  • 代理机构34107 芜湖安汇知识产权代理有限公司;

  • 代理人钟雪

  • 地址 241000 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803

  • 入库时间 2023-06-19 13:15:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-16

    著录事项变更 IPC(主分类):G01N23/207 专利申请号:202110925743X 变更事项:申请人 变更前:芜湖启迪半导体有限公司 变更后:安徽长飞先进半导体有限公司 变更事项:地址 变更前:241000 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803 变更后:241000 安徽省芜湖市高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803

    著录事项变更

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