公开/公告号CN113644129A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-12
原文格式PDF
申请/专利权人 电子科技大学;电子科技大学广东电子信息工程研究院;
申请/专利号CN202110925423.4
申请日2021-08-12
分类号H01L29/778(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/08(20060101);
代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);
代理人孙一峰
地址 611731 四川省成都市高新西区西源大道2006号
入库时间 2023-06-19 13:13:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-04-25
授权
发明专利权授予
机译: 具有渐变嵌入式硅锗源极漏极和/或扩展的p型MOSFET的结构和方法
机译: 一种具有扩展和/或漏极的方法,用于生产应变P型MOSFET-锗源-斜角嵌入式硅
机译: 与p型MOSFET的源极/漏极区域的接触电阻低的接触结构,具有在细长材料上方放置的含锗介电层,以及在含锗介电层上方的金属膜