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测量对准标记或对准标记组件的方法、对准系统和光刻工具

摘要

本发明提供了一种测量对准标记或对准标记组件的方法,其中对准标记包括在至少两个方向上延伸的网格特征,该方法包括:使用对准标记或对准标记组件的预期地点来测量对准标记或对准标记组件;确定对准标记或对准标记组件在第一方向上的第一位置;确定对准标记或对准标记组件在第二方向上的第二位置,其中第二位置垂直于第一位置;确定对准标记或对准标记组件在第二方向上的预期地点与所确定的第二位置之间的第二方向扫描偏移;以及使用至少一个校正数据集基于第二方向扫描偏移来校正第一位置,以提供第一校正位置。

著录项

  • 公开/公告号CN113632013A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN202080024645.2

  • 发明设计人 F·G·C·比杰南;R·布林克霍夫;

    申请日2020-02-25

  • 分类号G03F9/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人赵林琳

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 13:10:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2020800246452 申请日:20200225

    实质审查的生效

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