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基于半导体生产线中不良产品的污染源查找方法

摘要

本发明公开了一种基于半导体生产线中不良产品的污染源查找方法,包括如下步骤:(1)先判断该不良原因是不良品相关联的机台造成的还是环境造成的;(2)确定污染物的物种;(3)排查待监测的洁净室空间内的机台,排除不涉及的污染物物种的机台;(4)利用上述气流流线进行逆向反推,从出现不良品相关联的机台出发,排除气流流线经过的机台;(5)从上述步骤排除之后的剩余机台出发,选定复数个的气流流线,设为正向流线B;观察所述逆向流线A和正向流线B,判定可疑机台;(6)进一步的检测确定污染物的来源。本发明的方法不仅没有增加额外的投入、成本较低,而且可以有效地查找到污染源,形成了一套系统性的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN113607766A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202110886059.5

  • 发明设计人 杨政谕;

    申请日2021-08-03

  • 分类号G01N23/2251(20180101);G01N23/22(20180101);G01N21/3504(20140101);

  • 代理机构32251 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陆金星

  • 地址 215126 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区方达街33号

  • 入库时间 2023-06-19 13:09:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-08-29

    授权

    发明专利权授予

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