一种基于半导体生产线中不良产品的污染源查找方法

摘要

本发明公开了一种基于半导体生产线中不良产品的污染源查找方法，包括如下步骤：(1)先判断该不良原因是不良品相关联的机台造成的还是环境造成的，若是后者，则进行下一步；(2)确定污染物的物种；(3)排查待监测的洁净室空间内的机台，排除不涉及的污染物物种的机台；(4)利用上述气流流线进行逆向反推，从出现不良品相关联的机台出发，排除气流流线不会经过的机台；(5)依据所述逆向的气流流线的时间特性与机台起始时间，查出不可能的机台，然后排除这些不可能的机台；(6)进一步的检测确定污染物的来源。本发明的方法不仅没有增加额外的投入、成本较低，而且可以有效地查找到污染源，形成了一套系统性的方法。