首页> 中国专利> 一种微电子用超纯氟化铵蚀刻液及其制备方法

一种微电子用超纯氟化铵蚀刻液及其制备方法

摘要

本发明公开了一种微电子用超纯氟化铵蚀刻液及其制备方法,该刻蚀液包括如下重量份原料:磷酸15‑20份、硝酸5‑10份、超纯氟化铵8‑20份、三乙醇铵盐3‑8份、水10‑15份;并在制备过程中使用了抗腐蚀涂料处理的流化床反应器,该抗腐蚀涂料由如下重量份原料制成:丙烯酸乳液50‑80份、硬脂酸10‑15份、滑石粉3‑5份、高岭土粉3‑5份、抗腐蚀填料3‑8份、消泡剂1‑1.5份、成膜助剂2‑5份、平流剂2‑4份、三乙烯四胺5‑10份、水15‑20份;该防腐涂料能够很好的保护流化床反应器不被氢氟酸腐蚀。

著录项

  • 公开/公告号CN113549462A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江阴润玛电子材料股份有限公司;

    申请/专利号CN202110664606.5

  • 发明设计人 何珂;戈烨铭;汤晓春;

    申请日2021-06-16

  • 分类号C09K13/08(20060101);C09D133/00(20060101);C09D5/08(20060101);

  • 代理机构32380 江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹键

  • 地址 214423 江苏省无锡市江阴市周庄镇欧洲工业园区

  • 入库时间 2023-06-19 13:00:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09K13/08 专利申请号:2021106646065 申请公布日:20211026

    发明专利申请公布后的驳回

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