一种耐摩擦、耐腐蚀TiN薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种耐摩擦、耐腐蚀TiN薄膜的制备方法，采用多弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合的沉积方法，得到单层TiN薄膜。本发明操作简单，采用多弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合的沉积方法，仅通过组合两种不同沉积原理的制备方法即可得到耐摩擦、耐腐蚀的TiN薄膜，方法重复性好，对于制备及开发特定应用背景的TiN薄膜具有重要意义。