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异物检查系统、异物检查方法、程序以及半导体制造装置

摘要

本发明涉及异物检查系统、异物检查方法、程序以及半导体制造装置。提供判定附着于检查对象的异物的位置以及种类的技术。是检查附着于检查对象的异物的异物检查系统,并通过具有以下部分来解决上述课题:光源部,向上述检查对象照射激励光;检测部,检测照射上述激励光而产生的荧光的发光;判定部,根据上述荧光的发光判定附着于上述检查对象的异物的位置以及种类;以及输出部,输出上述判定部的判定结果。

著录项

  • 公开/公告号CN113533266A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN202110410813.8

  • 申请日2021-04-16

  • 分类号G01N21/64(20060101);G01N21/01(20060101);G01V8/10(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人舒艳君;王海奇

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 12:57:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 专利申请号:2021104108138 申请日:20210416

    实质审查的生效

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