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一种电镀填孔组合物及其电镀填孔方法

摘要

本发明涉及电镀领域,更具体地,本发明涉及一种电镀填孔组合物及其电镀填孔方法,所述电镀填孔组合物,包括1‑1000ppm抑制剂、260000‑270000ppm酸性电解质、35000‑45000ppm铜盐、20‑60ppm整平剂,所述整平剂由(a)杂环化合物,(b)环氧化物,(c)缩水多元醇醚,(d)多元醇,(e)羧基烷烃化合物,(f)卤代烷烃盐中一种或多种聚合而成的聚合物。本申请电镀填孔组合物具有优异的填充率,填平效果好。

著录项

  • 公开/公告号CN113463142A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东硕成科技有限公司;

    申请/专利号CN202110622988.5

  • 发明设计人 孙宇曦;曾庆明;

    申请日2021-06-03

  • 分类号C25D3/38(20060101);C25D7/00(20060101);H05K3/42(20060101);

  • 代理机构31333 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人汤俊明

  • 地址 512000 广东省韶关市乳源县乳城镇侯公渡经济开发区氯碱特色产业基地

  • 入库时间 2023-06-19 12:48:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    著录事项变更 IPC(主分类):C25D 3/38 专利申请号:2021106229885 变更事项:申请人 变更前:广东硕成科技有限公司 变更后:广东硕成科技股份有限公司 变更事项:地址 变更前:512000 广东省韶关市乳源县乳城镇侯公渡经济开发区氯碱特色产业基地 变更后:512000 广东省韶关市乳源县乳城镇侯公渡经济开发区氯碱特色产业基地

    著录事项变更

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