相对于金属表面在电介质表面上选择性沉积氧化硅

摘要

提供了相对于金属表面在电介质表面上选择性沉积氧化硅膜的方法。可相对于电介质表面选择性地钝化衬底的金属表面，例如用聚酰亚胺层或硫醇SAM。通过使电介质表面与金属催化剂和包含硅烷醇的硅前体接触，而相对于钝化的金属表面在电介质表面上选择性沉积氧化硅。