一种无衬底超薄镍-63放射源的制备方法

摘要

本发明公开了一种无衬底超薄镍‑63放射源的制备方法，包括以下步骤：S1、将电沉积液中的镍金属离子沉积在铜衬底的一侧形成镍层；S2、在镍层上覆一层有机膜，即在镍层的两个对称面上分别为铜衬底和有机膜；S3、将步骤S2制备的镍‑63放射源浸没在衬底去除溶液中去除铜衬底；S4、去除步骤S3制备的无衬底镍‑63放射源上的有机膜，获得无衬底超薄镍‑63放射源。本发明制备得到无衬底超薄镍‑63放射源为双面放射源，厚度小于2μm，表面平整，无褶皱和破损，镍层致密均匀，有金属光泽；本发明工艺简便，操作简单，电沉积率大于90％。