首页> 外文学位 >Studies of field -induced stress on ultrathin layers of silicon dioxide on a silicon substrate
【24h】

Studies of field -induced stress on ultrathin layers of silicon dioxide on a silicon substrate

机译:硅衬底上二氧化硅超薄层的励磁诱导应力研究

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号