法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-15
发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):H01L21/67 专利申请号:2021105598863 申请公布日:20210924
发明专利申请公布后的撤回
机译: 等离子体处理工具,双源等离子体刻蚀机,双源等离子体刻蚀方法以及形成平面线圈双源等离子体刻蚀机的方法
机译: 等离子产生工具,双源等离子体刻蚀机,双源等离子体刻蚀方法以及形成平面线圈双源等离子体刻蚀机的方法
机译: 等离子体处理工具双源等离子体刻蚀机,双源等离子体刻蚀方法以及形成平面线圈双源等离子体刻蚀机的方法