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一种具有阶梯状上波导的InGaN/GaN量子阱激光器及其制备方法

摘要

一种具有阶梯状上波导的InGaN/GaN量子阱激光器,包括:下波导层;多量子阱层,形成于所述下波导层上;以及阶梯状上波导层,形成于所述多量子阱层上;其中,所述阶梯状上波导层包括:InxGa1‑xN层和InyGal‑yN层;InxGa1‑xN层,形成于所述多量子阱层上,InyGal‑yN层,形成于所述InxGal‑xN层上;x、y分别满足:0.01≤x≤0.1,0≤y≤0.015,并且x≠y。本发明通过调控具有阶梯状上波导的InGaN/GaN量子阱激光器的能带可有效的增加激光器的空穴注入效率,同时降低了光学损耗,从而改善了InGaN/GaN量子阱激光器的斜率效率和功率转换效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113422293A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN202110688710.8

  • 申请日2021-06-21

  • 分类号H01S5/20(20060101);H01S5/343(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴梦圆

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-06-19 12:38:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-11

    授权

    发明专利权授予

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