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一种基于声子晶体的MEMS热电器件制备方法

摘要

一种基于声子晶体的MEMS热电器件制备方法,包括:S1,在SOI衬底的顶层硅上刻蚀出热电转换结构(100),热电转换结构(100)包括一连接部以及连接于连接部两端的两端部;S2,在步骤S1所得结构的上表面生长氮化硅膜(102);S3,刻蚀氮化硅膜(102)以形成支撑臂和支撑岛;S4,在支撑岛上沉积第一金属(103),并刻蚀第一金属(103)以形成金属图形;S5,在支撑臂上沉积第二金属(104),通过退火工艺使得第二金属(104)与顶层硅形成欧姆接触;S6,在热电转换结构(100)的连接部制备声子晶体;S7,在步骤S6所得结构的上表面和SOI衬底的下表面生长掩膜层;S8,刻蚀下表面至SOI衬底的埋氧层(101);S9,去除埋氧层(101);S10,去除上表面掩膜层。

著录项

  • 公开/公告号CN113363375A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN202010144775.1

  • 申请日2020-03-04

  • 分类号H01L35/34(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王中苇

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-06-19 12:29:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L35/34 专利申请号:2020101447751 申请日:20200304

    实质审查的生效

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