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一种高光谱激光雷达植被叶片入射角效应校正的方法

摘要

本发明公开了一种高光谱激光雷达植被叶片入射角效应校正的方法,使用高光谱激光雷达测量被测植被叶片样本在不同波长和不同入射角下的回波强度数据;在同时考虑波长和入射角对漫反射比例因子和表面粗糙度影响的前提下,对原始入射角效应公式进行修正;采用最小二乘法计算得到修正后的入射角效应公式中的两参数;依次迭代计算所有波长和入射角下的漫反射比例因子和表面粗糙度参数,并构建查找表;建立修正后的高光谱激光雷达植被叶片入射角效应校正公式;基于查找表和入射角效应校正公式,对其他波长和入射角下同种植被叶片的回波强度进行校正。该方法同时考虑了高光谱激光雷达波长和入射角对漫反射比例因子和表面粗糙度的影响,提高了校正效果。

著录项

  • 公开/公告号CN113311449A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院空天信息创新研究院;

    申请/专利号CN202110558253.0

  • 申请日2021-05-21

  • 分类号G01S17/88(20060101);G01S17/89(20200101);G01S7/48(20060101);

  • 代理机构11260 北京凯特来知识产权代理有限公司;

  • 代理人郑立明;陈亮

  • 地址 100080 北京市海淀区北四环西路19号

  • 入库时间 2023-06-19 12:22:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-04

    授权

    发明专利权授予

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