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一种高隐形双信息加密/解密的光子晶体图案的制备方法

摘要

一种高隐形双信息加密/解密的光子晶体图案的制备方法,它涉及一种光子晶体图案的制备方法。本发明的目的是要解决现有的基于响应型光子晶体的隐形图案在常态下无法实现完全隐形和单一的信息加密/解密的问题。方法:一、制备柔性自支撑的SiO2‑PEGDA‑复合光子晶体薄膜;二、制备柔性自支撑的PEGDA的反蛋白石薄膜;三、疏水改性;四、选择性亲水处理。本发明获得的高隐形双信息加密/解密的光子晶体图案适用于材料的防伪和加密。

著录项

  • 公开/公告号CN113292757A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN202110555404.7

  • 发明设计人 李垚;潘梦瑶;赵九蓬;

    申请日2021-05-25

  • 分类号C08J7/12(20060101);C08J9/36(20060101);C08J9/40(20060101);C08J5/18(20060101);C08L71/02(20060101);

  • 代理机构23213 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司;

  • 代理人侯静

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2023-06-19 12:21:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-01

    授权

    发明专利权授予

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