技术领域
本申请涉及等离子处理技术领域,尤其是涉及一种提升单体等离子设备生产效率的设备及其方法。
背景技术
等离子处理技术是采用等离子表面处理机对包装盒表面薄膜、UV涂层或者塑料片材进行一定的物理化学改性,提升表面附着力,使它能和普通纸张一样容易粘结。其应用于半导体、线路板、显示、电子、纺织等众多领域,尤其在印刷线路板(PCB)行业中,使用等离子体对PCB进行表面和孔内进行处理成为高频通讯板等产品的通用标准生产工艺。
目前的等离子体处理设备多为单腔体垂直式的设备,即单个腔体同时进行多片PCB板材处理的架构,其中用于等离子体产生的16片或更多的电极垂直等距排列,PCB板插在电极板间隙进行处理。为了使PCB板能稳定地安置在两片极板之间,需要先将PCB板固定在金属框架上,再将框架放入电极间隙。这种上板程序是等离子处理流程中重要程序,而且有着严格的工艺要求。
但因为现有设备的限制,目前的单体等离子体处理设备都是人工进行上下板作业的,即需要人力将每一块PCB板定位安装到台车的不同层的框架上,然后将上了基板的台车人工送至等离子处理系统中进行加工处理。这种单腔体处理系统,需要工作人员比较多,基本要需要一个员工负责一台台车的上板工作,还需要一个员工负责接送等离子真空处理腔体内的基板,需要支付的人工费用比较多,工作效率低下,也是目前单体式等离子设备制约生产效率的关键因素。
发明内容
为了改善上述缺陷,本申请提供一种提升单体等离子设备生产效率的设备及其方法。
本申请提供的一种提升单体等离子设备生产效率的设备,采用如下的技术方案:
一种提升单体等离子设备生产效率的设备,包括等离子设备本体和台车,所述台车包括:
底座;
匣式框架,固定在底座上,具有多个嵌合槽;以及
至少一个单层框架,用于放置待处理工件,每一所述单层框架均嵌合在对应的嵌合槽内。
优选的,所述匣式框架呈L形,所述匣式框架的一边与底座的上表面固定,所述匣式框架的另一边竖直设置;所述嵌合槽并排设置在匣式框架的竖直边上。
优选的,相邻所述嵌合槽等间距设置。
优选的,所述匣式框架为双层结构,所述单层框架上下并排设置在对应的嵌合槽内。
本申请还提供一种提升单体等离子设备生产效率的方法,其技术方案如下:
步骤如下:
1)在自动上下板站将单层框架安装在匣式框架上;
2)打开等离子设备,将腔体内的框架人工移动到台车上;
3)将取出的框架运送至自动上下板站的固定点,推入接料区;
4)将已经上好板料的框架放置在台车上,运送至等离子设备腔体内,进行作业。
优选的,自动上下板站工作步骤如下:
1)将匣式框架的固定机构打开,使每层框架自由移动;
2)将单层框架从匣式框架中拉出,并平移到作业点,通过机械手下板和上板作业;
3)完成上板后,单层框架被送至匣式框架原位置,继续处理下一个单层框架,直至所有单层框架处理完毕。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益效果:
1.本申请方案在不对现有的昂贵等离子设备进行改造的前提下,通过改造现有台车的固定框架为匣式框架,使每个单层框架都能够从匣中自由拆卸,便于配套的自动上下板站的自动化作业;
2.本申请方案设备组合结构简单,操作简便,可以广泛地兼容现存正在使用的等离子体处理设备,也能够同时实现一个自动上下板站服务多台等离子处理设备,大幅提升等离子处理制程的生产效率。
3.本申请通过一种匣式的框架结构替代现有等离子设备的固定式框架,配合自动上下板站的机械手自动上板、下板作业,减少了改造成本。
附图说明
图1是本申请实施例的匣式框架的一种实施方式的示意图;
图2是本申请实施例的另一种匣式框架与单层框架的结构示意图。
附图标记说明:1、底座;2、匣式框架;21、嵌合槽;3、单层框架。
具体实施方式
以下结合附图1-2对本申请进一步详细说明。
本申请实施例公开了一种提升单体等离子设备生产效率的设备。参照图1和图2,设备包括等离子设备本体和台车,台车包括底座1和固定在底座1上的匣式框架2,底座1的底部具有四个滚轮,使得底座1可以在地面上移动。匣式框架2具有多个嵌合槽21,每一嵌合槽21内均可以穿设一个单层框架3,工件放置在单层框架3上。单层框架3可以从匣式框架2上自由拆卸,便于自动上下料。
参照图1和图2,单层框架3呈方框状,单层框架3的中部连接有短杆,短杆将单层框架3的体积一分为二,短杆将每一单层框架3的范围分为上下两部分,以便于在每一部分内放置工件。
参照图1和图2,匣式框架2可以呈L形设置,匣式框架2的一边与底座1的上表面固定,匣式框架2的另一边竖直设置,多个嵌合槽21并排设置在匣式框架2的竖直边上,且多个嵌合槽21等间距设置。多个单层框架3以水平移动的方式穿设在对应的嵌合槽21内,由于多个嵌合槽21是等间距设置,因此多个单层框架3也同样等间距设置,便于工件均匀排布在设备的腔体内,提升加工的均匀性。
参照图1和图2,匣式框架2还可以设置为双层结构,单层框架3上下并排设置在对应的嵌合槽21内。双层的结构能够容纳更多的单层框架3,提高工件处理效率。
本申请还公布了一种提升等离子设备生产效率的方法,包括如下步骤:
1)在自动上下板站将单层框架3安装在匣式框架2上,具体的,将匣式框架2的固定机构打开,使每层框架自由移动。将单层框架3从匣式框架2中拉出,并平移到作业点,通过机械手下板和上板作业。完成上板后,单层框架3被送至匣式框架2原位置,继续处理下一个单层框架3,直至所有单层框架3处理完毕;
2)打开等离子设备,将腔体内的框架人工移动到台车上;
3)将取出的框架运送至自动上下板站的固定点,推入接料区;
4)将已经上好板料的框架放置在台车上,运送至等离子设备腔体内,进行作业。
本申请实施例的实施原理为:单体等离子设备仍然维持现有的结构和状态。采用本发明提出的匣式框架2结构替换掉原来的固定框架结构,如原有的7片框架+8片框架的双台车结构,仍然用7片匣式框架2+8片匣式框架2来替代。匣式框架2具体包含外部的匣式大框架和可移动的多片单层小框架,并带有固定装置。台车的结构可以改变也可以不改变。
单体等离子设备处理完后,将腔体内的框架人工移动到台车上,仍然采用人工的方式运送到自动上下板站的固定端口,并将框架推入自动上下板站的接料区;自动上下班站会将框架从接料区自动传输到工作区进行上下板作业,并传输已经上好板的另一套框架到接料区,由人工移动到台车上,运送到单体等离子设备处,将框架推入腔体进行处理作业。
自动上下板站工作区将匣式框架2的固定机构打开,使每层框架能够自由移动。单层框架3被从匣内拉出,并平移到作业点进行机械手下板和上板作业;完成上板后,单层框架3被送回至匣式框架2原来位置;然后处理下一个单层框架3,直至所有单层框架3处理完毕。。
以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围。
机译: 一种用于生产微波等离子体的设备,用于处理基材,特别是用于单体的等离子体聚合
机译: 一种用于生产微波等离子体的设备,用于处理基材,特别是用于单体的等离子体聚合
机译: 扁平型等离子诊断设备件型等离子诊断设备,配备平面等离子诊断设备静电卡盘嵌入平面等离子体诊断系统中。 本研究是一种材料创新计划(NRF)材料创新计划(1711120490 / 2020M34A3106004),由科学和技术信息和通信部门提供支持。委托为51%)韩国国家科技研究协会(NST)研发 同盟计划(1711062007 / CAP-17-02-NFRI-01)由Kriss支持。